Fotodruck
- Abstand zwischen Leiterbahnen: min. 50 µm
- Leiterbahnbreite: min 50 µm
- lichtempfindlicher Fotoresist, mit wässriger Sodalösung entwickelbar Ordyl AM130, AM140, AM150, AM160
Ausrüstung:
- Orbotech LDI Paragon 8800HI Maschine zur Beleuchtung
- WISE MEC horizontale Linie für die Vorbehandlung der Kupferoberfläche
- WISE DES horizontale Linie für die Entwicklung des Fotoresists, Ätzen der Kupferoberfläche und Strippen des Fotoresists
- Hakuto MACH 610V, Hakuto MACH 760UP Laminator und DuPont Riston LS2400
